我們的競爭對手喜歡想方設法讓他們的產品看起來比我們的性能更好。 最近，我們收到了一些關于QUV 輻照度均勻性的問題，因為我們的競爭對手發布了他們的熒光 UV 測試儀輻照度均勻性參數。

他們聲稱，他們的熒光紫外線測試儀”在樣本表面的輻照度均勻度為4%”。

但是“OvertheSurfaceofthesample”是什么意思?

我們的競爭對手喜歡吹噓他們4%的“輻照度均勻性”規范，但他們傾向于淡化4%的實際含義。首先，他們使用了不正確的術語。他們要么說一致性是96%，要么說非一致性是4%。其次，這個值不是整個腔室的均勻性，甚至也不是腔室某一側的均勻性。它只是說，在6.35×9.53厘米(2.5×3.75英寸)的面積上，輻照度不均勻性為4%。這種說法誤導了很多客戶。

再加上，樣品表面的均勻性對機械評價(如光澤或顏色)影響不大。在進行這些測量時，通常會對標本的中心部分進行評估，因此外邊緣對測量的影響非常小。所以說真的，這是一個愚蠢的規范，因為它對評估幾乎沒有影響。不管怎樣，我們在標本的表面上確實有相同的輻照度均勻性，所以那里沒有問題。

那么 QUV 中真實的輻照度均勻度是多少?

雖然QUV樣品表面的輻照度均勻度與我們的競爭對手相似，但我們可以提供更多的信息。除了樣品表面的均勻性外，當你排除設備邊緣的樣品支架時，我們可以擁有大于90%的整體輻照度均勻性。

但是設備邊緣的支架呢?

在QUV邊緣的輻照度均勻度下降到80%以下，但這是基于物理和幾何的限制，適用于所有熒光紫外測試儀。

熒光紫外線燈發出的光貫穿整個長度。標本的大部分光線來自燈的最近部分，但它們也暴露在來自標本左側和右側的燈部分的光線下。

測試器左側的樣品不會暴露在來自左側的光線下，因為燈不會進一步延伸到左側。同樣，位于測試儀右側的標本也不會暴露在來自右側的光線下。圖 1 是這種效果的圖解演示。

圖1:靠近燈端部的樣品被暴露在較低的輻照度下的示例

那么應該使用哪些標本位置呢?

盡管末端位置的輻照度略低，但我們的政策是所有標本位置都可以使用，但強烈推薦標本重新定位(參見Q-Tip21，“標本重新定位是最佳實踐”)。如果客戶不想重新定位標本或要求所有位置的輻照度均勻度為>90%，那么他們可以選擇將末端的標本夾留空。

溫度均勻性如何?

我們最近也有一些關于QUV溫度均勻性的問題。通過正確的安裝和樣品安裝，QUV內的溫度均勻性非常好。

客戶避免在末端或標本之間出現任何間隙是非常重要的。這些縫隙會導致空氣沖出腔室，從而導致相鄰試樣冷卻，并在其他位置產生熱點。

結論

當客戶要求 QUV 的一致性時，正確地提出這個問題是很重要的。他們問的是輻照度還是溫度均勻性?他們測量的均勻度是在哪個區域?我們更喜歡使用箱體內輻照度均勻度，而不是樣品表面的均勻度，這在QUV 中是非常好的(>90%)。

雖然QUV輻照度均勻性很好，但物理和幾何定律限制了燈具兩端的輻照度。我們建議通過利用標本重新定位來克服這一限制，這也提高了水噴霧和溫度均勻 性。

最后，在進行溫度測量時，正確安裝標本支架是很重要的。有可能用來測量溫度的設備實際上降低了測試儀的溫度均勻性!